真空鍍膜的目的是通過物理或化學(xué)的方法在目標(biāo)表面涂覆透明的電解質(zhì)膜或金屬膜，以改變目標(biāo)表面的反射和透射特性。涂布方式有真空涂布和光學(xué)涂布，但很多用戶不知道兩者的區(qū)別。今天，肇慶科潤真空將解釋真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別。

一、概念的區(qū)別。

1.真空鍍膜是一種在高真空下加熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍膜件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面蒸發(fā)凝結(jié)形成薄膜的方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2.光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面涂覆一層(或多層)金屬(或電介質(zhì))薄膜的工藝過程。光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了滿足減少或增加光反射、分束、分色、濾光和偏振的要求。常用的涂布方法有真空涂布(物理涂布之一)和化學(xué)涂布。

第二，原則的不同。

1.真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供了一種新的薄膜制備工藝。簡而言之，金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射，從而可以沉積在被涂覆的物體(稱為基底、襯底或基體)上

2.光學(xué)干涉廣泛應(yīng)用于薄膜光學(xué)。光學(xué)薄膜技術(shù)常用的方法是真空濺射鍍膜玻璃基片，一般用來控制基片對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損耗，提高成像質(zhì)量，涂覆一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為減反射膜或減反射膜。

隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對薄膜的反射率和透射率有了不同的要求，這促進(jìn)了多層高反射薄膜和寬帶抗反射薄膜的發(fā)展。對于各種應(yīng)用，高反射膜用于制造偏振反射膜、分色膜、發(fā)光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層上多次反射透射，形成多光束干涉。通過控制薄膜層的折射率和厚度，可以獲得不同的強(qiáng)度分布，這就是干涉涂層。

第三，方法和材料的區(qū)別。

1、真空鍍膜材料的方法:

(1)真空蒸發(fā):清潔待涂覆的基材，并將其放入涂覆室中。抽空后，將薄膜加熱到高溫，使蒸汽達(dá)到13.3帕左右，使蒸汽分子飛向襯底表面，凝結(jié)成薄膜。

(2)陰極濺射鍍膜:將待鍍膜基片對著陰極放置，向真空室通入惰性氣體(如氬氣)，保持壓力在1.33~13.3帕左右，然后將陰極與2000伏DC電源連接，然后激發(fā)輝光放電。帶正電荷的氬離子撞擊陰極發(fā)射原子，濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。

(3)化學(xué)氣相沉積:通過選定的金屬化合物或有機(jī)化合物的熱分解獲得沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:本質(zhì)上，離子鍍是真空蒸發(fā)和陰極濺射的有機(jī)結(jié)合，兼具兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種涂層方法的優(yōu)缺點(diǎn)。

2.常見的光學(xué)涂層材料。

(1)氟化鎂:無色四方粉，純度高，能提高光學(xué)涂層的透光率，不開裂。

(2)二氧化硅:無色透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度高，化學(xué)穩(wěn)定性好，純度高。可用于制備蒸發(fā)狀態(tài)好、無塌陷的高質(zhì)量Si02涂層。根據(jù)應(yīng)用要求，可分為紫外光、紅外光和可見光。

(3)氧化鋯:白色重晶態(tài)，高折射率耐高溫，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高。用于制備高質(zhì)量氧化鋯涂層時，無裂點(diǎn)。

第四，膜厚的差異。

真空鍍膜中金屬材料電鍍的薄膜厚度一般在3-5微米左右。光學(xué)鍍膜的膜厚測試可以通過在鍍膜機(jī)中部頂部安裝膜厚測試儀來完成。早期采用光控試驗(yàn)。現(xiàn)在一般用晶振測試鍍層厚度。不同的膜有不同的厚度。

以上內(nèi)容是真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別介紹，希望對大家有所幫助。真空鍍膜的過程很復(fù)雜，只是因?yàn)樾枰芨叩恼婵斩?。光學(xué)涂層的涂層材料都是稀有金屬，隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，它們的需求可能會增加。肇慶科潤真空鍍膜設(shè)備有限公司是一家真空鍍膜設(shè)備，玻璃深加工機(jī)械設(shè)備制造及相關(guān)產(chǎn)品鍍膜的科技型多元化公司。如有需要，請聯(lián)系科潤真空設(shè)備有限公司！