真空鍍膜的應(yīng)用簡單理解為在真空環(huán)境中通過蒸發(fā)、濺射和隨后的冷凝在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體和塑料部件上涂覆金屬膜或涂層。與傳統(tǒng)涂布方法相比，真空涂布是一種干式涂布，其主要方法包括以下幾種:

真空蒸發(fā)。

其原理是在真空條件下，蒸發(fā)材料被蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接導(dǎo)向襯底，在襯底上沉積固體薄膜。

濺射鍍膜。

濺射鍍膜是在真空條件下將2000伏的高壓接到陰極上，激發(fā)輝光放電。帶正電荷的氬離子撞擊陰極噴出原子，濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜層。

離子鍍。

也就是干式螺桿真空泵廠家已經(jīng)推出的真空離子鍍。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，因此兼具兩種技術(shù)特點(diǎn)。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(薄膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在襯底表面。在成膜過程中，基材總是受到高能粒子的轟擊，非常干凈。

真空卷繞涂層。

真空卷繞鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上的連續(xù)鍍膜技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基板的一些功能和裝飾性能。

以上四種類型屬于物理氣相沉積技術(shù)的應(yīng)用(PVD)。

然后是化學(xué)氣相沉積(CVD)。薄膜是通過化學(xué)反應(yīng)制成的。其原理是在一定溫度下，將含有成膜材料的反應(yīng)氣體引入基底并被吸附，在基底上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)形成核，然后反應(yīng)產(chǎn)物從基底表面分離并不斷擴(kuò)散形成膜。

離子束沉積鍍膜結(jié)合了離子注入和氣相沉積鍍膜技術(shù)，是一種利用電離粒子作為氣相沉積材料，在相對(duì)較低的襯底溫度下形成特性良好的薄膜的技術(shù)。