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在鍍膜領(lǐng)域，涂鍍后的薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此，在評(píng)價(jià)膜樣品的性能時(shí)，需要在不同厚度下測(cè)試膜樣品的性能。在真空鍍膜的情況下，這通常需要多次樣品制備。然而，多次制備樣品存在兩個(gè)問(wèn)題：首先，不同的生長(zhǎng)樣品具有不同的儀器條件，因此影響膜樣品性能的因素不僅是厚度。其次，在真空涂層實(shí)驗(yàn)中需要再次對(duì)樣品進(jìn)行真空處理。獲取非常耗時(shí)。增加生產(chǎn)和測(cè)試成本。
真空鍍膜機(jī)被廣泛使用，涉及各個(gè)行業(yè)，并受到每個(gè)人的廣泛喜愛(ài)。那么它的工作原理是什么？
真空鍍膜設(shè)備主要是指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括多種類(lèi)型，包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備，真空離子蒸發(fā)，光學(xué)鍍膜機(jī)，磁控濺射，MBE分子束外延， PLD激光濺射有多種噴涂方法。真空鍍膜的工作原理是薄膜在高溫下在工件表面蒸發(fā)并結(jié)晶。由于空氣將對(duì)蒸發(fā)的薄膜分子產(chǎn)生阻力，并引起碰撞，使晶體粗糙而晦暗，因此必須在高真空下使晶體細(xì)膩明亮。如果真空度不高，晶體將失去光澤，并且粘合力也非常差。早期的真空鍍膜依賴(lài)于蒸發(fā)器的自然散射，加上工作效率低和光澤差?，F(xiàn)在添加中頻磁控濺射靶。磁控射擊靶在電場(chǎng)的作用下加速了膜體蒸發(fā)分子對(duì)靶材料的轟擊，濺射出大量靶原子，中性靶原子（或分子）沉積在膜上基材上的薄膜解決了過(guò)去無(wú)法通過(guò)自然蒸發(fā)處理的薄膜類(lèi)型，例如鍍鈦和鍍鋯。
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