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目前卷對卷真空鍍膜生產(chǎn)線(機)多為單室分室和多室結(jié)構(gòu),雖然這種生產(chǎn)設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,價格低廉,生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)能力亦可,但仍存在以下缺點:當(dāng)鍍膜設(shè)備每一次完成一個鍍膜工序,必須將整個真空設(shè)備真空室放空,破壞真空,將鍍制好的底材取出,然后裝入新的底材卷,使其重新真空化,使其能耗增加,影響生產(chǎn)效率,成本增加。
薄膜的制備是在真空條件下進(jìn)行的,包括晶態(tài)下的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物薄膜,雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但真空鍍膜通常是通過物理方法沉積薄膜。有三種形式的真空鍍膜,即蒸發(fā)式、濺射式和離子式。真空膜的多功能性也決定了它的應(yīng)用場合十分豐富??偟膩碚f,真空鍍膜的主要作用是使鍍膜表面具有很高的金屬光澤和鏡面效果,使鍍膜材料具有卓越的阻隔性,提供優(yōu)良的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。
真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面,它是基于真空技術(shù),采用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的新工藝.簡而言之,將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射,使之凝固并沉積在涂覆物(稱為基體,基片)上的方法,即真空鍍膜。