鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法有很多，包括真空磁控濺射、真空蒸發(fā)、化學(xué)氣相沉積和溶膠-凝膠法。磁控濺射鍍膜玻璃可以利用磁控濺射技術(shù)設(shè)計(jì)制造多層復(fù)雜薄膜系統(tǒng)，可以在白色玻璃基板上鍍膜各種顏色。該膜具有良好的耐腐蝕性和耐磨性，是目前應(yīng)用最廣泛的產(chǎn)品之一。

涂覆靶是濺射源，在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下，通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的涂覆系統(tǒng)在基底上形成各種功能膜。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，目標(biāo)就是高速帶電能量粒子轟擊的目標(biāo)，用于高能激光武器。當(dāng)不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的不同激光束與不同目標(biāo)相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷和破壞效果。例如，蒸發(fā)磁控濺射鍍膜就是加熱蒸發(fā)鍍膜...鋁膜等。通過(guò)更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦和鎳靶材等。)，不同的膜系(如超硬、耐磨、耐腐蝕合金膜等。)即可獲得。

磁控濺射沉積的主要優(yōu)點(diǎn)是:(1)粒子能量高，膜結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定，無(wú)電子束熱蒸發(fā)鍍膜引起的波長(zhǎng)漂移；(2)因?yàn)榭梢栽O(shè)置為磁控濺射，所以可以通過(guò)真空室的圓柱形表面積來(lái)測(cè)量涂覆面積。在較低的沉積速率下，手機(jī)裝飾涂層領(lǐng)域的生產(chǎn)效率高于蒸發(fā)涂層；③與蒸發(fā)膜相比，濺射膜具有穩(wěn)定的折射率，因此膜的光學(xué)厚度可以通過(guò)鍍膜時(shí)間來(lái)控制。(4)無(wú)需加熱即可得到致密的薄膜，適用于耐溫不超過(guò)100℃的PET薄膜等材料。⑤一旦工藝調(diào)整到高重復(fù)性；