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Low-E鍍膜設(shè)備怎么進(jìn)行鍍膜

2021-01-06 16:50:41

采用納米材料技術(shù)和磁控濺射技術(shù),在連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線上在玻璃表面沉積Low-E薄膜,屬于物理氣象沉積(PVD)。這種薄膜能有效地降低玻璃表面半球形輻射率,從而提高玻璃的保溫和隔熱性能。該生產(chǎn)線屬“光機(jī)電一體化”集成成套設(shè)備,適用于平板玻璃的大面積加工領(lǐng)域,可持續(xù)生產(chǎn)可鋼化、雙銀型、覆蓋所有陽(yáng)光控制薄膜玻璃的產(chǎn)品。

Low-E

真空鍍膜機(jī)采用不同的鍍膜工藝,其所采用的自動(dòng)控制系統(tǒng)也不相同,即使是相同的鍍膜工藝,所采用的控制系統(tǒng)也因技術(shù)指標(biāo)的不同而有所不同。微機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)、自動(dòng)控制裝置、工業(yè)自動(dòng)化儀表、壓力控制儀、真空計(jì)及某些自動(dòng)控制元件等一般鍍膜設(shè)備的基本構(gòu)成,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)真空鍍膜設(shè)備的程序自動(dòng)控制、轉(zhuǎn)換鍍膜過(guò)程、調(diào)整真空工藝參數(shù)等基本功能。

在濺射膜上激光濺射鍍膜,成分均勻,易于保持,而在原子尺度上厚度均勻度相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射),晶向(外邊沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。真空鍍膜機(jī)操作規(guī)程具體操作時(shí),請(qǐng)參照本說(shuō)明書(shū)和本設(shè)備上儀表盤(pán)指針顯示說(shuō)明以及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。確認(rèn)真空鍍膜機(jī)的各個(gè)操作控制開(kāi)關(guān)是否處于“關(guān)斷”位置。就我國(guó)現(xiàn)有的涂裝生產(chǎn)線而言,主要存在以下問(wèn)題:設(shè)計(jì)水平不高,國(guó)內(nèi)在涂裝設(shè)備開(kāi)發(fā)方面投入不大,先進(jìn)成熟的涂裝設(shè)備很少占領(lǐng)市場(chǎng),即使是國(guó)內(nèi)自己建造的涂裝生產(chǎn)線,生產(chǎn)線上的一些關(guān)鍵設(shè)備也是引進(jìn)多了。它在國(guó)內(nèi)的一些基礎(chǔ)部件和控制部件的質(zhì)量并沒(méi)有過(guò)關(guān),經(jīng)不起長(zhǎng)期的考驗(yàn)。

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