常規(guī)真空技術是指沒有特殊要求的真空技術過程，這種真空裝置(設備)對真空衛(wèi)生的要求

(1)所有真空設備零件都要求無積聚污染源，表面無灰塵、鐵屑和腐蝕；

(2)真空設備真空室表面光滑，無軟組織和氣孔，無內焊等影響真空的缺陷

(3)在高真空設備中，真空室內運動部件不得使用機油作為潤滑劑，應使用飽和蒸汽壓低的擴散泵油和硅油作為潤滑劑；法蘭和觀察窗的密封部件應涂有高真空油脂；

(4)真空設備一般應在15~30℃、相對濕度不超過70%的潔凈空氣流通環(huán)境下工作，冷卻水進水溫度不超過25℃。

電真空技術對環(huán)境的要求。

電氣真空結構材料除了具有良好的機械性能和加工性能外，還能滿足其它性能要求，即易除氣，飽和蒸汽壓低，化學穩(wěn)定性好，純度高，清潔度高，輻射能力適宜等。因此電真空工藝具有特殊性，對清洗處理的要求非常嚴格，應盡量清洗或減少零件污染。

真空鍍膜技術對環(huán)境的要求。

真空鍍膜工藝襯底(基底)表面的清洗處理非常重要，基底進入鍍膜室前應仔細清洗，以達到工件去油、去污、脫水的目的?；妆砻嫖廴緛碓从诟鞣N灰塵、拋光膏、油脂、汗?jié)n等附著在加工、傳輸和包裝過程中的零件；濕空氣中產生的氧化膜；零件表面吸收吸附的氣體。這些污垢基本上可以通過去油或化學清洗去除。