1、磁控濺射的優(yōu)勢：

（1）實際操作易控。表層的鍍膜全過程，只需維持工作中氣體壓強、額定功率等磁控濺射標準比較平穩(wěn)，就能得到相對穩(wěn)定的沉淀速度。

（2）堆積速度高。在堆積絕大多數(shù)的合金塑料薄膜，尤其是堆積高溶點的金屬材料和金屬氧化物塑料薄膜時，如磁控濺射鎢、鋁塑料薄膜和反應濺射TiO2、ZrO2塑料薄膜，具備很高的堆積率。

（3）基鋼板超低溫性。相對性二極磁控濺射或是熱揮發(fā)，磁控濺射對基鋼板加溫少了，這一點對完成紡織物的上磁控濺射非常有益。

（4）膜的堅固性好。磁控濺射塑料薄膜與基鋼板擁有非常好的粘合力，沖擊韌性也獲得了改進。

（5）涂膜高密度、勻稱。磁控濺射的塑料薄膜集聚相對密度普遍提高了。從顯微照片看，磁控濺射的溥膜表層外部經(jīng)濟外貌較為精美細膩，并且十分勻稱。

（6）磁控濺射的塑料薄膜均具備良好的特性。如磁控濺射的陶瓷膜一般 能獲取較好的光電特性、電力學特性及一些獨特特性。

（7）便于機構(gòu)批量生產(chǎn)。磁控源能夠按照需要開展擴張，因而大規(guī)模表層的鍍膜是很容易完成的。再再加上磁控濺射可連續(xù)性工作中，表層的鍍膜全過程非常容易自動控制系統(tǒng)，因而工業(yè)生產(chǎn)上流水線生產(chǎn)徹底變成 很有可能。

（8）加工工藝環(huán)境保護。傳統(tǒng)式的濕式電鍍工藝會形成廢水、廢料、有機廢氣，對自然環(huán)境產(chǎn)生明顯的環(huán)境污染。不發(fā)生空氣污染、生產(chǎn)制造高效率的磁控濺射表層的鍍膜規(guī)律可不錯處理這一難點。

2、磁控濺射運用：

磁控濺射現(xiàn)階段是一種運用十分的塑料薄膜堆積技術性,磁控濺射技術性上的持續(xù)進步和對新作用塑料膜的探究科學研究,使磁控濺射運用拓寬到很多制造和研究行業(yè)。

（1）在微電子技術行業(yè)做為一種非快熱式表層的鍍膜技術性,關鍵使用在有機化學液相堆積(CVD)或金屬材料分析化學液相堆積(MOCVD)生長發(fā)育艱難及不適合的原材料塑料薄膜堆積,并且還可以得到大規(guī)模十分勻稱的塑料薄膜。包含歐姆接觸的Al、Cu、Au、W、Ti等金屬電極塑料薄膜及可用以柵電纜護套或蔓延能隙層的TiN、Ta2O5、TiO、Al2O3、ZrO2、AlN等物質(zhì)塑料薄膜堆積。

（2）磁控濺射技術性在光學薄膜(如增透膜)、減反射膜夾層玻璃和全透明導電性夾層玻璃等領域也獲得運用。在全透明導電性夾層玻璃在夾層玻璃硅片或軟性襯底上,磁控濺射制取SiO2塑料薄膜和夾雜ZnO或InSn金屬氧化物(ITO)塑料薄膜，使可見光范圍內(nèi)均值光透過率在90%之上。

（3）在當代機械加工制造工業(yè)生產(chǎn)中,運用磁控濺射技術性制做表層作用膜、超

硬膜,自潤滑軸承塑料薄膜,能合理的增強表層強度、復合型延展性、抗磨損性和抗高溫有機化學可靠性能,進而大幅地提升鍍層商品的使用期限。

磁控濺射除以上已被大量的使用的行業(yè),仍在高溫超導體塑料薄膜、鐵電體塑料薄膜、巨磁電式塑料薄膜、塑料薄膜光學材料、太陽能電池板、記憶合金塑料薄膜科學研究層面起到主要功效。

三、匯總

磁控濺射技術性因為其的優(yōu)勢變成 工業(yè)生產(chǎn)表層的鍍膜關鍵技術性之一。在未來的分析中，新技術應用向工業(yè)生產(chǎn)方面的營銷推廣、磁控濺射技術性與電子計算機的融合已變成一個研究內(nèi)容，怎樣利用軟件來操縱精準表層的鍍膜全過程，利用軟件來仿真模擬表層的鍍膜時的電磁場、溫度梯度、及其氣旋遍布，終將能給磁控濺射表層的鍍膜全過程給予靠譜的信息適用，也是經(jīng)濟發(fā)展合理的方式 。