當(dāng)前標(biāo)簽:磁控濺射鍍膜機
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本鍍膜設(shè)備是在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃上采用真空磁控濺射技術(shù),中頻濺射技術(shù),并配以國際先進的控制系統(tǒng),鍍制So,/ITO膜層,生產(chǎn)過程全部自動,連續(xù)進行。立式磁控濺射鍍膜機主要組成部分:1.真空室:不銹鋼制造,立式,外壁通冷卻水,內(nèi)襯不銹鋼擋板。2.真
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AF磁控濺射鍍膜機應(yīng)用科潤真空獨有的離子源輔助,磁控中頻反應(yīng)濺射及蒸發(fā)鍍膜工藝的先進鍍膜技術(shù),顯著提高了AF膜層質(zhì)量,以及產(chǎn)品的質(zhì)量和設(shè)備工作的穩(wěn)定性。除手機、平板電腦、車載顯示器等觸控產(chǎn)品和數(shù)碼以及光學(xué)元器件外,也適合用于在電器、手表、衛(wèi)
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本設(shè)備是片式電阻端頭鍍膜的專用設(shè)備,也適用于其它細小,顆粒狀,無法懸掛的片式元件鍍膜,片式電阻端頭磁控濺射鍍膜機其特點為:1.雙磁控濺射靶鍍膜速率高,膜層致密。2.獨特的夾具結(jié)構(gòu),可實現(xiàn)大批量電陰端頭鍍膜。3.鍍膜成品率達99%以上。4.整