隨著經(jīng)濟(jì)和技術(shù)的快速發(fā)展，各種功能薄膜已經(jīng)廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代工業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域。在各種制備薄膜的方法中，真空蒸發(fā)和磁控濺射是兩種最重要的方法。目前，電阻加熱真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)具有成膜工藝簡(jiǎn)單、操作方便的優(yōu)點(diǎn)，但隨著薄膜在高科技領(lǐng)域的興起和發(fā)展，特別是微電子和光電產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，蒸發(fā)鍍膜已經(jīng)不能滿足所有要求。

磁控濺射鍍膜是物理氣相沉積中一種非常有效的薄膜沉積方法。磁控濺射鍍膜設(shè)備具有穩(wěn)定的真空濺射環(huán)境，陰極承載鍍膜材料。在磁場(chǎng)的約束和增強(qiáng)作用下，等離子體中的工作氣體離子在陰極電場(chǎng)的加速作用下轟擊刻蝕陰極上的靶材，即在低壓和高壓狀態(tài)下起到輝光濺射鍍膜的作用，使材料源的離子從靶材表面逸出，然后沉積附著在襯底上。

磁控濺射鍍膜是在高真空下的穩(wěn)定室內(nèi)進(jìn)行的。當(dāng)在真空度差或真空泄漏的情況下進(jìn)行鍍膜時(shí)，薄膜會(huì)受到不穩(wěn)定的真空環(huán)境和雜質(zhì)的影響。涂完后清洗或擦拭時(shí)，薄膜會(huì)在泄漏點(diǎn)附近大范圍脫落或小范圍脫落。當(dāng)不同濺射材料的相鄰位置非常接近，并且使用不同的工藝氣體時(shí)，例如在濺射材料和氧化物之間，它們之間的串?dāng)_也會(huì)導(dǎo)致膜層粘附不良或氧化剝離，并且在涂覆后清洗和擦拭后會(huì)出現(xiàn)斑點(diǎn)剝離。