塑料真空鍍膜機(jī)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于生活中，大家都知道它的作用和用途，包括他的應(yīng)用領(lǐng)域在內(nèi)，但很多人都不太清楚。塑料真空鍍膜機(jī)在給物體涂膜時(shí)，為什么選擇在真空狀態(tài)下進(jìn)行

已知的是，物品鍍膜材料在常壓下蒸鍍時(shí)不能形成理想的薄膜，但事實(shí)上，當(dāng)壓力(或真空)不足時(shí)，也不能得到良好的效果。例如，在10根數(shù)量級(jí)蒸鍍鋁，得到的薄膜層不僅不亮，而且灰色、黑色，機(jī)械強(qiáng)度極差，用松鼠刷輕輕刷就能破壞鋁層。蒸鍍要在一定真空條件下進(jìn)行。這是因?yàn)?/p>

(1)高真空度可保證汽化分子的平均自由度大于從蒸發(fā)源到基礎(chǔ)的距離。

由于氣體分子的熱運(yùn)動(dòng)，分子之間的沖突也非常頻繁，因此氣體分子運(yùn)動(dòng)的速度相當(dāng)高(每秒幾百米)，但由于在前進(jìn)過(guò)程中與其他分子多次沖突，一個(gè)分子在兩次連續(xù)沖突之間的距離被稱(chēng)為自由程，大量分子自由程的統(tǒng)計(jì)平均值被稱(chēng)為分子的平均自由程。

氣壓強(qiáng)度與單位體積分子數(shù)成正比，平均自由程度與氣壓強(qiáng)度成正比。在真空淀膜膜的過(guò)程中，堆積距離大于分子的平均自由程時(shí)稱(chēng)為低真空堆積，堆積距離小于分子的平均自由程時(shí)稱(chēng)為高真空堆積。高真空堆積時(shí)，蒸發(fā)原子(或分子)與殘留氣體分子子之間的碰撞可以忽略，因此蒸發(fā)原子沿直線(xiàn)飛向基板，保持大動(dòng)能到達(dá)基板的蒸發(fā)原子可以在基板上凝結(jié)成牢固的膜層。低真空堆積時(shí)，由于碰撞的結(jié)果，汽化原子的速度和方向發(fā)生了變化，在空間中也有生成蒸汽原子集合體的可能性-其道理與水蒸氣在大氣中產(chǎn)生霧相似。

(2)在較高的真空度下，可以減少殘留氣體的污染，在真空度不太高的情況下，真空室內(nèi)含有很多殘留氣體分子(氧、氮、水、碳?xì)浠衔锏?，對(duì)薄膜的鍍層造成很大的危害。由于分子分子的汽化，其平均自由度縮短，與成膜表面發(fā)生碰撞，發(fā)生反應(yīng)，隱藏在形成的膜內(nèi)逐漸腐蝕膜，與蒸源發(fā)生高溫化合，縮短壽命，在蒸發(fā)膜材料表面形成氧化層，使蒸發(fā)不順利。

經(jīng)過(guò)上述說(shuō)明，為什么塑料真空鍍膜機(jī)需要在真空狀態(tài)下進(jìn)行鍍膜，其作用、原理如何，真空狀態(tài)下鍍膜有什么優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)在大家應(yīng)該大致理解，希望本次介紹對(duì)大家有所幫助。