本鍍膜設備是在優(yōu)質浮法玻璃上采用真空磁控濺射技術，中頻濺射技術，并配以國際先進的控制系統(tǒng)，鍍制So，/ITO膜層，生產過程全部自動，連續(xù)進行。

立式磁控濺射鍍膜機主要組成部分：

1.真空室：不銹鋼制造，立式，外壁通冷卻水，內襯不銹鋼擋板。

2.真空系統(tǒng)：蝸輪分子泵系統(tǒng)。

3.蒸發(fā)源：直流磁控濺靶和中頻磁控濺射靶分別固定在真空室兩側。

4.工件烘烤：采用不銹鋼管狀加熱器配合均熱板，確保基片加熱均勻性。

5.充氣系統(tǒng)：氣體質量流量計和壓強自動控制儀。

6.電氣控制系統(tǒng)：觸膜屏與PLC自動控制，人機對話方式來實現系統(tǒng)的數據顯示；操作與控制。

7.水冷系統(tǒng)：真空室冷卻和陰極冷卻，有水壓保護開關的水流開關。

主要技術參數：

總功率：350kw

極限真空壓力：7X10+pa

平均生產周期：100秒/架

直流磁控靶功率：20kw

中頻磁控靶功率：20kw

基片尺寸：750×1200（mm）