當(dāng)前標(biāo)簽：高真空光學(xué)多層鍍膜設(shè)備
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高真空光學(xué)多層鍍膜設(shè)備采用e型電子槍蒸發(fā)源,可鍍各種高熔點(diǎn)金屬和氧化物材料，可制備多種光學(xué)眼鏡片、電學(xué)膜、超硬膜及裝飾膜等，配有光學(xué)膜厚控制系統(tǒng),電控系統(tǒng)采用PLC控制，可實(shí)現(xiàn)手動(dòng)、半自動(dòng)和自動(dòng)3種方式,是光學(xué)儀器、激光工業(yè)、眼鏡行業(yè)等必需
