當(dāng)前標(biāo)簽:磁控濺射鍍膜機(jī)價(jià)格
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本鍍膜設(shè)備是在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃上采用真空磁控濺射技術(shù),中頻濺射技術(shù),并配以國際先進(jìn)的控制系統(tǒng),鍍制So,/ITO膜層,生產(chǎn)過程全部自動,連續(xù)進(jìn)行。立式磁控濺射鍍膜機(jī)主要組成部分:1.真空室:不銹鋼制造,立式,外壁通冷卻水,內(nèi)襯不銹鋼擋板。2.真
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本設(shè)備是片式電阻端頭鍍膜的專用設(shè)備,也適用于其它細(xì)小,顆粒狀,無法懸掛的片式元件鍍膜,片式電阻端頭磁控濺射鍍膜機(jī)其特點(diǎn)為:1.雙磁控濺射靶鍍膜速率高,膜層致密。2.獨(dú)特的夾具結(jié)構(gòu),可實(shí)現(xiàn)大批量電陰端頭鍍膜。3.鍍膜成品率達(dá)99%以上。4.整